AJA 的ATC Flagship系列濺射系統是一款多功能的物理氣相沉積設備，可以通過不同的配置來實現不同的需求。這些系統是基于AJA獨有A300-XP (UHV)超高真空或 Stiletto系列 (HV)高真空磁控濺射靶源來配置，這些濺射靶源可以原位偏轉，因而可以實現精確的，可重復的共焦濺射沉積，直接濺射沉積以及離軸濺射沉積。所有系統都配置了重型液壓升降裝置，方便打開腔體上蓋。

以下腔室尺寸可供選擇：

ATC 1800 (18" Ø)

ATC 2200 (22" Ø)

ATC 2600 (26" Ø)

這些功能強大的沉積系統可以集成多種沉積方式（電子束蒸發/熱蒸發/PLD脈沖激光沉積），離子源，克努森蒸發池（MBE分子束外延系統），

對靶磁控濺射靶源（FTS），接觸掩模系統，金屬密封腔體，烘干罩，手套箱，基片cassette，自動批量裝載系統，以及分析儀器（RHEED/XPS/Auger/RGA/MOS/橢偏儀等。

可根據應用需求配置Labview電腦控制和渦輪分子泵或低溫泵。所有ATC Flagship系統之間可輕易連接，或者也可以和 ATC Orion系統連接，集成多腔系統（如，金屬或氧化物）或多工藝混合系統（如，濺射/電子束蒸發/熱蒸發/離子刻蝕/分析儀器）。

主要特點

l 可容納11個2英寸共焦濺射原位偏轉靶源

l 超薄薄膜沉積（＜1nm）、沉積速率可控制

l 沉積均勻性:優于±1.5% @ 4" (100mm)基片

l 樣品臺: 加熱1000℃、旋轉0-40RPM、RF/DC 偏壓

l  RF、DC、Pulsed DC和HiPIMS 等電源

l 可集成4 路 MFC 氣路 (Ar、O²、N²、H² 等.)

l 半自動控制或LabVIEW 計算機控制

l  Load-Lock/ 預真空室

l  HV 或UHV (e-10_-7 to e-10_-10 Torr)

l 鍍膜材料：金屬、介質、陶瓷、超導、透明導電氧化物、磁性材料、有機材料、壓電材料等

l 研究方向：磁學、自旋電子學、GMR/MTJ等

標準沉積速率&均勻性數據