原子層沉積 ALD System

• ALD 原子層沉積系統(tǒng)

  

  原子層沉積（ALD）是在3D結(jié)構(gòu)上逐層沉積超薄薄膜的工藝方法。薄膜厚度和特性的精確控制通過在工藝循環(huán)過程中在真空腔室分步加入前置物實(shí)現(xiàn)。

   

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